Mga produkto

Nag-aral kami ng nitrogen-doped nanocarbon film electrode na may nitrogen concentration na mas mababa sa 10.9 at% na nabuo ng hindi balanseng magnetron (UBM) sputtering method.Ang nilalaman ng sp(3) sa nitrogen-doped UBM sputtering nanocarbon film (N-UBM film) ay bahagyang tumataas sa pagtaas ng konsentrasyon ng nitrogen.Ang nitrogen-containing graphite-like bonding ay bumababa at pyridine-like bonding ay tumataas sa pagtaas ng nitrogen concentration.Ang N-UBM film ay may napakakinis na ibabaw na may average na pagkamagaspang na 0.1 hanggang 0.3 nm, na halos independyente sa konsentrasyon ng nitrogen.Ang N-UBM film electrode ay nagpapakita ng mas malawak na potensyal na window (4.1 V) kaysa sa isang pure-UBM film electrode (3.9 V) dahil sa bahagyang pagtaas nito sa sp(3) na nilalaman.Ang aktibidad ng electrocatalytic ay tumaas sa pagtaas ng konsentrasyon ng nitrogen, na nagmumungkahi na ang electroactivity ay pinakamataas kapag ang konsentrasyon ng nitrogen ay nasa paligid ng 10.9 sa%, na kinumpirma ng peak separation ng Fe(CN)6(4-).Ang mga potensyal na pagbawas ng hydrogen peroxide (H2O2) sa N-UBM film electrode ay lumipat ng humigit-kumulang 0.1 V, at ang peak current ng H2O2 ay tumaas ng halos 4 na beses.